特許

J-GLOBAL ID：200903021019515160

軟磁性膜の製造方法及び軟磁性膜並びに磁気ヘッド

発明者： 佐藤 勝裕 ,  高橋 聡 ,  中村 恵子
出願人/特許権者： ミツミ電機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-076497
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273536
出願日： 1999年03月19日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】 軟磁性膜12はFe微結晶粒を主な構造として持つために、Ta-Nの存在により低耐食性であることが問題となった。【解決手段】 図1の(a)に示す膜生成工程において、Fe系合金、例えばFe-Ta-N膜20のアモルファス化を促進するために半金族類である例えばSiを5原子(at)%より多く25at%より少なく添加する。すると、図1の(b)に示すようにFe-Si-Ta-N膜21が生成される。このFe-Si-Ta-N膜21を530°Cで熱処理することにより、図1の(c)に示すようなFe-Siの微結晶粒22の周囲を強磁性体でなおかつ高耐食性のFe-Si-Ta-Nアモルファス相23が取り囲む構造の軟磁性膜24を製造できる。

請求項（抜粋）：

Fe系合金のアモルファス化を促進するために半金属類を5at%より多く添加する膜生成工程と、上記膜生成工程で生成された膜がアモルファス相と微結晶の2相構造となるように熱処理を施す熱処理工程とを備えてなることを特徴とする軟磁性膜の製造方法。

IPC (6件)：

C21D 6/00 ,  C22C 38/00 303 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/31 ,  H01F 10/13 ,  H01F 10/14

FI (6件)：

C21D 6/00 C ,  C22C 38/00 303 S ,  G11B 5/127 F ,  G11B 5/31 C ,  H01F 10/12 A ,  H01F 10/14

Fターム (14件)：

5D033BA04 ,  5D033BA08 ,  5D033CA06 ,  5D033DA02 ,  5D033DA05 ,  5D033DA31 ,  5D093BC05 ,  5D093FA04 ,  5D093HA06 ,  5D093JA20 ,  5E049AA01 ,  5E049AA09 ,  5E049AC01 ,  5E049BA12