特許
J-GLOBAL ID:200903021024077198
ラミネート装置及びラミネート方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鎌田 久男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-274815
公開番号(公開出願番号):特開2000-103027
出願日: 1998年09月29日
公開日(公表日): 2000年04月11日
要約:
【要約】【課題】 加工特性を向上させることができるラミネート装置及びラミネート方法を提供する。【解決手段】 第1の基材W1 は、基材供給装置1によって巻取りR1 から連続して巻き出されて、コーティング装置4によって接着剤Gが塗布される。第2の基材W2 は、基材供給装置2によって巻取りR2 から連続して巻き出されて、貼り合わせ装置5に送り出される。貼り合わせ装置5は、第1の基材W1 と第2の基材W2 とを貼り合わせて、加熱装置6は、複合基材W3 を均一な温度に加熱する。その結果、接着剤Gの粘度が低下して、接着剤Gの塗膜の凹凸が平滑化(レベリング)する。また、接着剤Gを均一に硬化させて、第1の基材W1 と第2の基材W2 との密着性を向上させることができるとともに、接着剤Gの硬化を促進させて、エージング時間を短縮することができる。
請求項(抜粋):
少なくとも第1の基材と第2の基材とを接着剤によって貼り合わせて複合基材を製造するラミネート装置において、前記第1及び/又は前記第2の基材に前記接着剤を塗布する塗布手段と、前記第1の基材と前記第2の基材とを貼り合わせる貼り合わせ手段と、前記複合基材の温度を均一にする加熱手段と、前記複合基材を加熱した状態で巻き取る巻取り手段と、を含むことを特徴とするラミネート装置。
IPC (4件):
B32B 31/14
, B29C 65/52
, B32B 31/26
, B29L 9:00
FI (3件):
B32B 31/14
, B29C 65/52
, B32B 31/26
Fターム (44件):
4F100AB10
, 4F100AK07
, 4F100AK42
, 4F100AK51G
, 4F100AK54G
, 4F100AT00A
, 4F100AT00B
, 4F100BA02
, 4F100CB00
, 4F100CB02
, 4F100EC182
, 4F100EH012
, 4F100EH461
, 4F100EH66
, 4F100EJ19
, 4F100EJ38
, 4F100EJ422
, 4F100EJ942
, 4F100EK06
, 4F100JK06
, 4F100JK15
, 4F100JL01
, 4F211AA11
, 4F211AA24
, 4F211AD03
, 4F211AD05
, 4F211AD08
, 4F211AD34
, 4F211AD35
, 4F211AG01
, 4F211AG03
, 4F211AM32
, 4F211AR17
, 4F211TA03
, 4F211TC05
, 4F211TH01
, 4F211TH22
, 4F211TJ30
, 4F211TN53
, 4F211TN60
, 4F211TQ03
, 4F211TQ10
, 4F211TQ14
, 4F211TW06
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