特許
J-GLOBAL ID：200903021031974901
洗浄・乾燥処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099803
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284459
出願日： 1997年04月02日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】 洗浄処理と乾燥処理を行う装置全体を小型にしてスループットの向上を図れるようにすると共に、歩留まりの向上を図れるようにすること。【解決手段】 半導体ウエハWの洗浄液を収容する洗浄槽22と、洗浄槽22の上部に位置する乾燥室23と、半導体ウエハWを保持してこの半導体ウエハWを洗浄槽22内と乾燥室23内に移動するウエハボート24とを具備し、乾燥室23を、洗浄槽22の開口部22cに連通する固定基体37と、この固定基体37との間にOリング38を介して密接する乾燥室本体39とで構成すると共に、乾燥室本体39を第1の昇降手段44によって昇降可能に形成する。
請求項（抜粋）：
被処理基板の洗浄液を収容する洗浄槽と、上記洗浄槽の上部に位置する乾燥室と、上記被処理基板を保持してこの被処理基板を上記洗浄槽内と乾燥室内に移動する保持手段とを具備し、上記乾燥室を、上記洗浄槽の開口部に連通する固定基体と、この固定基体に密接する乾燥室本体とで構成すると共に、乾燥室本体を昇降可能に形成してなる、ことを特徴とする洗浄・乾燥処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304
H01L 21/304 351 C
, H01L 21/304 351 V
