耐摩耗薄膜形成方法及び耐摩耗薄膜

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大川宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-266589
公開番号（公開出願番号）：特開平7-118425
出願日： 1993年10月25日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】製造コストが安価であるとともに量産性に優れ、かつ強固な密着力を有して優れた耐摩耗性を確実に発揮する耐摩耗薄膜を樹脂基板上に形成する。【構成】アクリル系光重合硬化塗料と、シラノール基を有するポリシロキサン組成物を含有する未硬化下地層2を樹脂基板1上に形成し、この未硬化下地層2上にシリコン系熱重合硬化塗料からなる未硬化上層3を形成する。紫外線を照射して未硬化下地層2を重合させ、加熱処理により未硬化上層3を重合させる。未硬化上層3の重合時にポリシロキサン組成物のシラノール基と未硬化上層3のシラノール基とが脱水結合反応によりシロキサン結合され、下地層2と上層3とが強固に結合する。

請求項（抜粋）：

樹脂基板上に有機系耐摩耗ラジカル重合硬化組成物からなる未硬化下地層を形成する未硬化下地層形成工程と、該未硬化下地層上にシリコン系耐摩耗熱重合硬化組成物からなる未硬化上層を形成する未硬化上層形成工程と、光若しくは電子線の照射又は加熱処理により該未硬化下地層を重合させる下地層重合硬化工程と、加熱処理により該未硬化上層を重合させる上層重合硬化工程と、を有する耐摩耗薄膜形成方法であって、前記未硬化下地層は、さらにシラノール基を有するポリシロキサン組成物を含有することを特徴とする耐摩耗薄膜形成方法。

IPC (8件)：

C08J 7/04 , B32B 7/02 , B32B 27/00 101 , B32B 27/08 , B32B 27/16 , C08J 7/00 301 , C08J 7/00 302 , C08L101:00

引用特許：

審査官引用 (6件)

特表昭62-502623
成形物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-285210 出願人：三菱レイヨン株式会社
被覆積層体
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-215591 出願人：東レ株式会社

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