特許
J-GLOBAL ID：200903021048867149
マイクロ波プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-035781
公開番号（公開出願番号）：特開平5-347250
出願日： 1993年02月24日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、マイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波導入窓に付着するダスト等を少なくし、不均一な膜厚分布となる欠点を除き、マイクロ波導入窓からの距離に関係なく膜厚分布の均一をはかるプラズマ処理装置を提供するものである。【構成】 真空処理室と、該真空処理室中に有する基板と、該真空処理室と接続されマイクロ波電力を供給するマイクロ波導波管と、前記真空処理室のマイクロ波導入部近傍にマイクロ波を電界方向に分割する部材と、を有し、前記部材と、プラズマ処理を受ける前記基板面とが直交しないマイクロ波プラズマ処理装置である。
請求項（抜粋）：
真空処理室と、該真空処理室中に有する基板と、該真空処理室と接続されマイクロ波電力を供給するマイクロ波導波管と、前記真空処理室のマイクロ波導入部近傍にマイクロ波を電界方向に分割する部材と、を有し、前記部材と、プラズマ処理を受ける前記基板面とが直交しないことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
引用特許：
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