特許
J-GLOBAL ID：200903021051099438
ポジ型レジスト材料
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-218700
公開番号（公開出願番号）：特開平6-043652
出願日： 1992年07月27日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 高感度、高解像性、プロセス適用性に優れた高エネルギー線露光用ポジ型レジスト材料を提供する。【構成】 ベースポリマー及び酸発生剤からなる2元系化学増幅型ポジレジスト材料あるいは必要に応じて、溶解禁止剤を添加した3元系化学増幅型ポジレジスト材料において、式(化1):R-N=C=N-R′(R、R′は同一又は異なり、炭化水素基又は芳香族基を示す)、又は式(化2):R′′-CO-R′′′(R′′、R′′′は同一又は異なり、炭化水素基、芳香族基又はそれらの含窒素置換基であり、少なくとも一方は含窒素置換基を示す)で表される有機脱水剤を添加したものであるポジ型レジスト材料。【効果】 特に電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。
請求項（抜粋）：
ベースポリマー及び酸発生剤からなる2元系化学増幅型ポジレジスト材料あるいは必要に応じて、溶解禁止剤を添加した3元系化学増幅型ポジレジスト材料において、下記一般式(化1):【化1】R-N=C=N-R′(式中R、R′は同じでも異なっても良く、炭化水素基、芳香族基の中から選択された1種類を示す)で表される有機脱水剤を添加したものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/029
, H01L 21/027
