特許
J-GLOBAL ID:200903021066610988

炭素系メタン吸蔵材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三枝 英二 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-103069
公開番号(公開出願番号):特開2001-287907
出願日: 2000年04月05日
公開日(公表日): 2001年10月16日
要約:
【要約】【課題】常温に近い温度において、優れたガス吸蔵性能を発揮するガス吸蔵材料を提供することを主な目的とする。【解決手段】組成式MC<SB>x</SB>で示される物質からなり、0°C以上の温度でメタンを吸蔵する材料(組成式中、Mはセシウムまたはルビジウムであり、7<x<60である)。
請求項(抜粋):
組成式MC<SB>x</SB>で示される物質からなり、0°C以上の温度でメタンを吸蔵する炭素系材料(組成式中、Mはセシウムまたはルビジウムであり、7<x≦60である)。
IPC (3件):
C01B 31/30 ,  B01J 20/20 ,  C22C 29/06
FI (3件):
C01B 31/30 ,  B01J 20/20 D ,  C22C 29/06 Z
Fターム (9件):
4G046MA00 ,  4G046MB02 ,  4G046MB08 ,  4G046MC01 ,  4G046MC12 ,  4G066AA42B ,  4G066BA38 ,  4G066CA51 ,  4G066GA14

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