特許
J-GLOBAL ID：200903021084869972
気相含浸方法及び気相含浸装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-077233
公開番号（公開出願番号）：特開平5-279151
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月26日
要約：
【要約】【目的】マトリックス形成用ガスの流通方向における多孔質成形体の表面と内部にほぼ同時にマトリックス成分を析出し、緻密なセラミック複合材料を形成することができる気相含浸方法及び気相含浸装置を提供する。【構成】反応炉31内に多孔質成形体35を収容し、この多孔質成形体35にマトリックス形成用ガスを通過させると同時に、多孔質成形体35を加熱することにより多孔質成形体35内の空隙にマトリックス成分を析出させる気相含浸法において、多孔質成形体35の一部に熱を印加し、マトリックス形成用ガスの流通方向とほぼ直交する反応炉31の幅方向に温度勾配を形成することによって、多孔質成形体35の高温部から反応炉31の幅方向に向けてマトリックス成分を析出させる。
請求項（抜粋）：
反応炉内に多孔質成形体を収容し、この多孔質成形体にマトリックス形成用ガスを通過させると同時に、前記多孔質成形体を加熱することにより前記多孔質成形体内の空隙にマトリックス成分を析出させる気相含浸法において、前記多孔質成形体の一部に熱を印加し、前記マトリックス形成用ガスの流通方向とほぼ直交する前記反応炉の幅方向に温度勾配を形成することによって、前記多孔質成形体の高温部から前記反応炉の幅方向に向けてマトリックス成分を析出させることを特徴とする気相含浸方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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