特許

J-GLOBAL ID：200903021101769944

集積回路コンデンサ

発明者： ロバート ツ ,  浅野 勇 ,  飯島 晋平 ,  ウィリアム アール.マッキー
出願人/特許権者： テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-021283
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223863
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 酸化に対し良好な耐性を有しかつ大きな仕事関数を有する自己整合電極を備えた集積回路コンデンサを提供する。【解決手段】 本発明のコンデンサの作成は、絶縁体領域26に隣接するベース電極18で開始する。このベース電極18は、ポリシリコンまたは金属のいずれかを有することができる。ケイ化物化される金属のような第1部材の層28が、ベース電極18の上および隣接する絶縁体領域の上に作成される。その後、自己整合コンデンサ電極12が、ベース電極18と第1部材28とを反応させそして絶縁体領域26から第1部材28の未反応の部分を除去することにより作成される。その後、自己整合コンデンサ電極12の上に誘電体層16を作成しそして誘電体層16の上に第2コンデンサ電極14を作成することにより、コンデンサが完成する。

請求項（抜粋）：

絶縁体領域に隣接してベース電極部材を備える段階と、前記ベース電極部材と前記隣接する絶縁体領域との上に第1部材の層を作成する段階と、前記第1部材が前記ベース電極部材と反応することにより自己整合コンデンサ電極を作成する段階と、前記自己整合コンデンサ電極の上に誘電体層を作成する段階と、前記誘電体層の上に第2コンデンサ電極を作成する段階と、を有する、集積回路コンデンサを製造する方法。

IPC (2件)：

H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (3件)：

H01L 27/10 621 C ,  H01L 27/10 621 B ,  H01L 27/10 651