特許

J-GLOBAL ID：200903021111116604

リソグラフィ投影装置およびそれを使用した装置を製造する方法

発明者： テオドルス ウベルトウス ヨゼフス ビショップス ,  ヤコブ、フイユフビンケル ,  ヘルマヌス マチアス ヨアネス レネ ソエメルス ,  ヨハネス コルネリス ドリーセン ,  ミハエル ヨツェファ マチュース レンケンス ,  アドリアヌス ゲラルドウス ボウワー
出願人/特許権者： エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-114656
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331930
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】 真空室内に位置した対象物、特にリソグラフィ装置の対象物テーブルを外側から制御しうるように真空室への運動送り込みを提供する。【解決手段】 長いストロークの運動が真空室の壁にある開口の上に摺動シールを設けることによって真空室内へ送り込まれる。真空室内におけるリソグラフィ装置のマスクあるいはウエハテーブルであるような運動させるべき対象物が摺動シールに接続され、摺動シールの運動によって動かされる。摺動シールはプレート、ボウルあるいは挟み込みされたプレートのラビリンスでよい。

請求項（抜粋）：

放射投影ビームを供給する放射装置と、マスクを保持するマスクホルダを備えた第1の対象物テーブルと、基板を保持する基板ホルダを備えた第2の対象物テーブルと、マスクの照射された部分を基板の目標部分上に像形成する投影装置とを含むリソグラフィ投影装置において、前記第1と第2の対象物テーブルの少なくとも一方を密閉する壁を有する真空室であって、前記壁が開口を有する真空室と、前記開口をシールし、前記開口のシールを保ちながら所定の運動範囲を通して前記真空室に対して平行な少なくとも一方向に移動可能である摺動シールと、前記真空室内で前記対象物テーブルに対して前記摺動シールの移動を伝達して対応して前記摺動シールを運動させる機械的リンク装置と、前記摺動シールを移動させ、それによって前記対象物テーブルを前記真空室内で移動させる位置決め手段とを含むことを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-066347
  
• 特表昭58-500134
  
• 電子ビ-ム描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-003903   出願人：株式会社日立製作所