特許
J-GLOBAL ID:200903021117684612
医薬組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
青山 葆
, 河宮 治
, 小島 一晃
, 岩崎 光隆
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-517098
公開番号(公開出願番号):特表2004-505928
出願日: 2001年07月24日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
爪の疾患、例えば爪甲真菌症を局所処置する方法であって、感染した爪を例えばパルスレーザービームで処理後に処置する方法。
請求項(抜粋):
その方法がエルビウム(Er:YAG)レーザーもしくはホルミウム(Ho:YAG)レーザーを含む装置で爪中に一つもしくはそれ以上のオリフィスを形成しそして抗真菌剤含有医薬組成物を爪に投与することを含む、爪甲真菌症に感染した爪の処置方法。
IPC (5件):
A61K45/00
, A61K9/06
, A61K9/08
, A61K31/137
, A61P31/10
FI (5件):
A61K45/00
, A61K9/06
, A61K9/08
, A61K31/137
, A61P31/10
Fターム (24件):
4C076AA06
, 4C076AA11
, 4C076BB31
, 4C076BB40
, 4C076CC31
, 4C084AA17
, 4C084MA16
, 4C084MA27
, 4C084MA28
, 4C084MA63
, 4C084MA70
, 4C084NA10
, 4C084ZA89
, 4C084ZB35
, 4C206AA01
, 4C206FA09
, 4C206MA02
, 4C206MA05
, 4C206MA36
, 4C206MA47
, 4C206MA48
, 4C206NA10
, 4C206ZA89
, 4C206ZB35
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (2件)
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ONYCHOMYCOSIS TREATED WITH CO2 LASER NAIL ETCHING
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ONYCHOMYCOSIS TREATED WITH CO2 LASER NAIL ETCHING
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