特許

J-GLOBAL ID：200903021119825582

真空注型方法

発明者： 西山 秀作 ,  樋口 三義
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122370
公開番号（公開出願番号）：特開平5-309674
出願日： 1992年05月15日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】 マスタモデルの形状を転写した注型型を用いてモデルを作成する真空注型方法に関し、樹脂注入の充填不足によるモデルの品質低下を防止できる方法の提供を目的とする。【構成】 マスタモデル2には、モデル1の形状にしたモデル形状部3の樹脂注入時に樹脂が最後に到達する箇所となる部分に連接させて樹脂溜まり部5〜7を設け、樹脂注入により形成された注型品から該樹脂溜まり部5〜7の部分を除去するように構成する。上記樹脂が最後に到達する箇所は、ウエルドとなる箇所を含む。樹脂溜まり部5〜7は、モデル形状部3に接する部分が括れている形状にする。4は湯口部であり注型品からの除去対象部分。

請求項（抜粋）：

マスタモデルの形状を転写した注型型を用いてモデルを作成する真空注型において、該マスタモデルには、該モデルの形状の樹脂注入時に樹脂が最後に到達する箇所となる部分に連接させて樹脂溜まり部を設け、樹脂注入により形成された注型品から該樹脂溜まり部の部分を除去することを特徴とする真空注型方法。