特許
J-GLOBAL ID：200903021137778362
薄膜成膜用マスクとその洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291968
公開番号（公開出願番号）：特開平7-145472
出願日： 1993年11月22日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：
【要約】【目的】 マスクを傷めないで、成膜された膜を洗浄できる薄膜成膜用マスクとその洗浄方法を提供することにある。【構成】 薄膜成膜時に用いるマスクにおいて、前記マスクをあらかじめ酸に溶解する材料で覆ったことを特徴とする。また、マスクにあらかじめ無電解めっきでニッケル膜を成膜しその上層に成膜した薄膜を剥離する時に、マスクにあらかじめ成膜しておいたニッケル膜を硝酸で溶解し、ニッケル膜の上層に成膜した薄膜を除去する洗浄方法である。
請求項（抜粋）：
薄膜成膜時に用いるマスクにおいて、あらかじめ酸に溶解する材料で前記マスクを覆ったことを特徴とする薄膜成膜用マスク。
IPC (4件)：
C23C 14/04
, C23C 16/04
, C23C 18/31
, C23G 1/08
