特許

J-GLOBAL ID：200903021138279742

シリコンウエハ表面の酸化膜の被膜率測定方法

発明者： 白井 宏
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-090605
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283586
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、簡便に測定を行うことができ、しかも精度よく被膜率を求めることができるシリコンウエハ表面の酸化膜の被膜率測定方法を提供することを目的とする。【構成】 基準ウエハの表面上が酸化膜で飽和された時点における超波長極性格子振動の縦波光学モード(LO)のピーク強度を測定する工程と、所定の時点に測定ウエハの表面の酸化膜の超波長極性格子振動の縦波光学モード(LO)のピーク強度を測定する工程と、前記飽和時点のピーク強度に対する測定ウエハのピーク強度の割合を被膜率として求める工程とを含むシリコンウエハ表面の酸化膜の被膜率測定方法。

請求項（抜粋）：

基準ウエハの表面上が酸化膜で飽和された時点における酸化膜の長波長極性格子振動の縦波光学モード(LO)のピーク強度を測定する工程と、所定の時点に測定ウエハの表面の酸化膜の長波長極性格子振動の縦波光学モード(LO)のピーク強度を測定する工程と、前記飽和時点のピーク強度に対する測定ウエハのピーク強度の割合を被膜率として求める工程とを含むシリコンウエハ表面の酸化膜の被膜率測定方法。