特許
J-GLOBAL ID：200903021139018330
フォトレジスト組成物及びこれを利用したカラーフィルタ基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 宇谷 勝幸
, 藤田 健
, 都祭 正則
, 長谷川 俊弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-175593
公開番号（公開出願番号）：特開2008-015530
出願日： 2007年07月03日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：
【課題】フォトレジスト組成物及びこれを利用したカラーフィルタ基板の製造方法が開示される。【解決手段】フォトレジスト組成物は、アントラキノン系染料及び顔料を含む着色剤、バインダー樹脂、架橋剤、光重合開始剤、及び溶媒を含む。前記フォトレジスト組成物を利用して形成されたカラーフィルタは高い光透過率を有する。従って、液晶表示装置のコントラストを改善することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
アントラキノン系染料及び顔料を含む着色剤と、
バインダー樹脂と、
架橋剤と、
光重合開始剤と、
溶媒と、を含むフォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004
, G03F 7/032
, G02B 5/20
, G02B 5/22
G03F7/004 505
, G03F7/032
, G03F7/004 501
, G02B5/20 101
, G02B5/22
2H025AB13
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC81
, 2H025CA01
, 2H025CA28
, 2H025CB14
, 2H025CB28
, 2H025CB52
, 2H025CC03
, 2H025CC12
, 2H025CC13
, 2H025CC17
, 2H025CC20
, 2H048BA02
, 2H048BA48
, 2H048BB02
, 2H048BB37
, 2H048BB42
, 2H048CA04
, 2H048CA14
, 2H048CA19
