特許

J-GLOBAL ID：200903021140424954

光ディスクの製造方法

発明者： 広兼 順司
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-160770
公開番号（公開出願番号）：特開平6-004910
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：

【要約】【構成】 第一の回転数W1 で回転させた基板1表面に液状の樹脂3を塗布し、第二の回転数W2 で基板1を回転させて基板1表面に形成される樹脂膜3aの膜厚を制御し、第三の回転数3 で基板1を回転させて基板1表面の外周部に存在する未乾燥の余分な樹脂3の盛り上がり部4を除去する。【効果】 盛り上がり部が許容限度以下に低減された、均一な膜厚のフォトレジスト膜や保護膜を形成することができる。フォトレジスト膜を形成した場合、ガイドトラック等のパターンを高精度で転写することができる。保護膜を形成した場合、紫外線照射量等を必要最小限にでき、工程時間を短縮することができると共に、硬化後、盛り上がり部が剥離して記録層に腐食等の損傷を与えることもない。信頼性に優れた高品質の光ディスクを製造することが可能となる。

請求項（抜粋）：

第一の回転数で回転させた基板表面に液状の樹脂を塗布し、第二の回転数で基板を回転させて上記基板表面に形成される樹脂膜厚を制御し、第三の回転数で基板を回転させて上記基板表面の外周部に存在する未乾燥の余分な樹脂を除去することを特徴とする光ディスクの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-200866
  
• 特開昭63-200865
  
• 特開平1-232559
  
• 特開昭63-272588