特許

J-GLOBAL ID：200903021143351770

スパッタ装置

発明者： 岩間 竜治
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-045410
公開番号（公開出願番号）：特開平5-243182
出願日： 1992年03月03日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：

【要約】【目的】 スパッタ装置のシャッタの構造の改良に関し、シャッタの厚みを増すことなく、簡単且つ容易にシャッタの変形と成膜用金属のパーティクルの発生とを防止することが可能となるスパッタ装置の提供を目的とする。【構成】 真空チャンバ1内のウエーハステージ2に載置した被処理基板12の表面に、ターゲット3から飛来した成膜用粒子を付着させて被膜を形成させ、この成膜用粒子防着用のシャッタ7をこのターゲット3とこの被処理基板12の間に備えるスパッタ装置において、このシャッタ7のこのターゲット3と対向する面に、線からなるカバー7aを具備するように構成する。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ(1) 内のウエーハステージ(2) に載置した被処理基板(12)の表面に、成膜用粒子の供給源(3) から飛来した成膜用粒子を付着させて被膜を形成させ、前記成膜用粒子防着用のシャッタ(7) を前記成膜用粒子の供給源(3) と前記被処理基板(12)の間に備えるスパッタ装置において、前記シャッタ(7) の前記成膜用粒子の供給源(3) と対向する面に、線からなるカバー(7a)を具備することを特徴とするスパッタ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/285 ,  C23C 14/34 ,  H01L 21/203

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-194906
  
• 特開平2-160085
  
• 特開昭55-140403