特許

J-GLOBAL ID：200903021156610731

オゾン水洗浄方法及び装置

発明者： 鈴木 克己 ,  中島 俊貴 ,  砂川 強志
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257369
公開番号（公開出願番号）：特開2001-079502
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：

【要約】【課題】さまざまな問題を有する半導体RCA洗浄や工業洗浄を代替して、低コスト、省エネルギーで環境にやさしい洗浄方法を提供する。【解決手段】オゾンガス4を1気圧より高い圧力で純水に溶解させてオゾン水6を製造し、圧力を保持した状態でこのオゾン水6を密閉洗浄室9に導き、被洗浄物10を洗浄するようにした。

請求項（抜粋）：

オゾンガスを1気圧より高い圧力で純水に溶解させてオゾン水を製造し、圧力を保持した状態で前記オゾン水を密閉洗浄室に導き、被洗浄物を洗浄することを特徴とするオゾン水洗浄方法。

IPC (4件)：

B08B 3/08 ,  B01F 1/00 ,  C02F 1/78 ,  H01L 21/304 647

FI (4件)：

B08B 3/08 Z ,  B01F 1/00 A ,  C02F 1/78 ,  H01L 21/304 647 Z

Fターム (16件)：

3B201AA03 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01 ,  3B201CD33 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BC02 ,  4D050BD02 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4G035AA01 ,  4G035AE13