特許
J-GLOBAL ID：200903021165486938

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
山口 修平

山口 修平 について

, 
西川 尚之

西川 尚之 について

, 
田口 紀彦

田口 紀彦 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-256200
公開番号（公開出願番号）：特開2009-086309
出願日： 2007年09月28日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(C)熱により分解し、分子量が低下する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、 (C)熱により分解し、分子量が低下する樹脂、 を含有するポジ型感光性組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  C08G 63/06 ,  C08G 63/68 ,  C08F 20/10
FI (7件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/40 511 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 571 ,  C08G63/06 ,  C08G63/68 ,  C08F20/10
Fターム (81件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096GA09 ,  2H096HA01 ,  4J029AA02 ,  4J029AB07 ,  4J029AE18 ,  4J029EB01 ,  4J029ED01 ,  4J029EE04 ,  4J029EF01 ,  4J029EF02 ,  4J029EF03 ,  4J029JB152 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL16P ,  4J100AL16Q ,  4J100AL26Q ,  4J100AL31P ,  4J100AL82P ,  4J100AL87P ,  4J100AQ15Q ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100AR32P ,  4J100BA03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA40P ,  4J100BA40R ,  4J100BA53P ,  4J100BA55P ,  4J100BA55Q ,  4J100BB01P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC52Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC58Q ,  4J100BC79P ,  4J100BC83P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38 ,  5F046AA17 ,  5F046DA29 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (3件)

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