特許

J-GLOBAL ID：200903021178092203

基板保持装置

発明者： 玉井 忠素
出願人/特許権者： 玉井 忠素
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-048671
公開番号（公開出願番号）：特開2000-251828
出願日： 1999年02月25日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】 基板面上の各点におけるイオン注入条件のばらつきを低減させるのに適した基板保持装置を提供する【解決手段】 台座の保持面上に、処理対象基板が保持される。公転機構が、台座を、公転軸の回りの円軌道に沿って公転させる。台座が、その円軌道上の処理領域に差し掛かり、該処理領域から離れるまでの処理期間中に、自転機構が、台座の保持面が円軌道に沿って並進移動するように、台座を、公転の向きとは反対の向きに自転させる。

請求項（抜粋）：

処理対象基板を保持する保持面を有する台座と、前記台座を、公転軸の回りの円軌道に沿って公転させる公転機構と、前記台座が、その円軌道上の処理領域に差し掛かり、該処理領域から離れるまでの処理期間中に、前記台座の保持面が前記円軌道に沿って並進移動するように、前記台座を、公転の向きとは反対の向きに自転させる自転機構とを有する基板保持装置。

IPC (6件)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  C23C 14/50 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

H01J 37/317 B ,  C23C 14/48 Z ,  C23C 14/50 H ,  H01J 37/20 A ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/265 603 D

Fターム (14件)：

4K029BD01 ,  4K029DA08 ,  4K029DE00 ,  4K029JA03 ,  5C001AA01 ,  5C001AA06 ,  5C001AA08 ,  5C001CC07 ,  5C034CC07 ,  5C034CC08 ,  5C034CC09 ,  5F031GA54 ,  5F031HA59 ,  5F031MA31