特許
J-GLOBAL ID:200903021192479838

シリコンウェハーのバックグラインド方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 穂高 哲夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-163257
公開番号(公開出願番号):特開平6-349799
出願日: 1993年06月08日
公開日(公表日): 1994年12月22日
要約:
【要約】【目的】 高温処理プロセスにも適応可能で、バックグラインディング後には簡単な操作で容易に剥離しうる保護膜を用いる全自動化可能なバックグラインド方法を提供する。【構成】 (a)分子内に不飽和2重結合を有し、重量平均分子量が200〜50,000の範囲で、アルキレン付加モル数が5以上のポリオキシアルキレン(メタ)アクリレートオリゴマー100重量部及び(b)分子内に不飽和2重結合を1分子あたり2個以上有する多官能アルキレン若しくはアリーレン(メタ)アクリレートモノマー1〜300重量部を必須成分とする樹脂組成物をシリコンウェハーの回路形成した表面に塗布し、次いで樹脂組成物の塗膜に放射線を照射して硬化せしめることにより保護樹脂膜を形成し、次いでシリコンウェハーの背面をグラインドし、グラインドしたシリコンウェハーを水、温水、酸性水溶液又はアルカリ水溶液に浸漬した後、保護樹脂膜を剥離するシリコンウェハーのバックグラインド方法。
請求項(抜粋):
(a)分子内に不飽和2重結合を有し、重量平均分子量が200〜50,000の範囲で、アルキレン付加モル数が5以上のポリオキシアルキレン(メタ)アクリレートオリゴマー100重量部及び(b)分子内に不飽和2重結合を1分子あたり2個以上有する多官能アルキレン若しくはアリーレン(メタ)アクリレートモノマー1〜300重量部を必須成分とする樹脂組成物をシリコンウェハーの回路形成した表面に塗布し、次いで樹脂組成物の塗膜に放射線を照射して硬化せしめることにより保護樹脂膜を形成し、次いでシリコンウェハーの背面をグラインドし、グラインドしたシリコンウェハーを水、温水、酸性水溶液又はアルカリ水溶液に浸漬した後、保護樹脂膜を剥離することを特徴とするシリコンウェハーのバックグラインド方法。
IPC (5件):
H01L 21/304 331 ,  H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304 ,  C08F299/02 MRS ,  C09J 4/00 JBK

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