ポジ型ネガ型兼用ノボラック系化学増幅型レジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋和幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-211088
公開番号（公開出願番号）：特開2007-025534
出願日： 2005年07月21日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

【課題】本発明の目的は、ポジ型ネガ型兼用ノボラック系化学増幅レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】本発明は、(A)一般式(I)【化5】(式中、R1、R2およびR3は、同一または異なって、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表すか、R1とR2が、隣接する炭素原子と一緒になってシクロアルキルを形成してもよく、R4、R5およびR6は、同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表し、nは1〜3の整数を表す)で表される構造単位を有する重合体、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物および(C)有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型ネガ型兼用ノボラック系化学増幅レジスト組成物を提供する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)一般式(I)

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/038 , G03F 7/38 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , G03F7/38 511 , H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB29 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096BA11 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096JA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

国際公開第05/23880号パンフレット

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