特許

J-GLOBAL ID：200903021212894608

新規アクリルモノマー、新規アクリルポリマー、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 曽根 篤 ,  角替 靖男
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-074295
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271974
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、安定して優れたパターン形状を与えるレジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸発生剤と、この酸発生剤により脱離する基として少なくとも2個のノルボルナン骨格を有する脂環式炭化水素基を有する構造単位を含むポリマーとからなるレジスト組成物である。

請求項（抜粋）：

下式(1)で示されるモノマー。【化1】(式中、Rは、水素原子または炭素数1-3の置換されていてもよいアルキル基であり;R’は、炭素数1-6の置換されていてもよいアルキル基であり;Zは、記載のCと共に少なくとも2個のノルボルナン骨格を有する置換されていてもよい脂環式炭化水素基を完成するのに必要な複数個の原子を表す)

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 ,  C07C 69/54 ,  C08F 20/18 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 501 ,  C07C 69/54 B ,  C08F 20/18 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 502 R