特許
J-GLOBAL ID：200903021254226656

流体噴射ヘッド、流体噴射ヘッドの製造方法、及び流体噴射装置

発明者：
加藤 治郎

加藤 治郎 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-188068
公開番号（公開出願番号）：特開2008-302685
出願日： 2007年07月19日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
【課題】小型化、高精細化を容易に実現でき、安価に製造できる流体噴射ヘッドを提供する。【解決手段】ノズル開口15に連通する圧力発生室12が形成された流路形成基板10と、流路形成基板10の一方の面に振動板400を介して設けられた圧電素子(駆動素子)130と、圧電素子130に電力を供給する駆動IC150とを備え、前記流路形成基板10が半導体基板を基体としてなり、前記半導体基板に駆動IC150が形成されていることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ノズル開口に連通する圧力発生室が形成された流路形成基板と、前記流路形成基板の一方の面に振動板を介して設けられた駆動素子と、前記駆動素子に電力を供給する駆動回路とを備えた流体噴射ヘッドであって、 前記流路形成基板が半導体基板を基体としてなり、 前記半導体基板に、前記駆動回路が形成されていることを特徴とする流体噴射ヘッド。
IPC (3件)：
B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16
FI (2件)：
B41J3/04 103A ,  B41J3/04 103H
Fターム (18件)：
2C057AF34 ,  2C057AF37 ,  2C057AF93 ,  2C057AG14 ,  2C057AG42 ,  2C057AG83 ,  2C057AG84 ,  2C057AG85 ,  2C057AG88 ,  2C057AG89 ,  2C057AG99 ,  2C057AP02 ,  2C057AP25 ,  2C057AP34 ,  2C057AQ02 ,  2C057AR16 ,  2C057BA03 ,  2C057BA14
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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