特許
J-GLOBAL ID：200903021258439964
Z方向オフセットおよび斜光照明によるマスク対象物シフトのY方向位置補正
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-105078
公開番号（公開出願番号）：特開2004-312002
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】Z方向オフセットおよび斜光照明によるマスク対象物シフトのY方向位置補正を提供すること。【解決手段】反射型リソグラフィ投影機器において、光軸に沿ってマスクのパターン表面の位置が変動することによって生じるマスクのパターン像の走査方向のシフトを、マスクおよび/または基板の相対位置を走査方向にシフトすることによって補正する。マスクおよび/または基板の相対位置を光軸の周りに回転することによって、像回転誤差の補正を行うこともできる。リソグラフィ投影機器にマスクを設置した後で、干渉計によって光軸に沿ったマスクのパターン表面の位置の変動を求めることができる。これらの変動をマッピングし記憶して、リソグラフィ投影機器を制御することができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
放射投影ビームを提供するように構成され配置された放射システムと、
パターン表面を含み、所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するように構成され配置された反射型パターン化装置を支持するように構成され配置された支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板の目標部分上に前記パターン化されたビームを投影するように構成され配置された投影システムとを備えるリソグラフィ投影機器であって、前記支持構造および前記基板テーブルが第1方向に相互に移動可能であり、前記パターン表面の位置の前記第1方向に直交する第2方向の変動を、前記パターン化装置の位置の前記第1方向の調整、前記基板位置の前記第1方向の調整、前記第2方向に平行な軸の周りの前記基板の回転、および前記第2方向に平行な前記軸の周りの前記パターン化装置の回転のうち少なくとも1つを行うことによって補正する、機器。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 531A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 515D
, H01L21/30 517
5F046BA05
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046DB04
, 5F046GA03
, 5F046GB01
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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