特許

J-GLOBAL ID：200903021263858584

ラクトンの製造方法

発明者： 大野 充 ,  山崎 則次
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 鍬田 充生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-130073
公開番号（公開出願番号）：特開2001-302653
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：

【要約】【課題】 無置換のエポキシ環を有するエポキシカルボン酸を用いて、ラクトンを製造できる方法を提供する。【解決手段】 下記式(1)で表されるエポキシカルボン酸又はその誘導体と、下記式(2)で表される化合物とを反応させ、下記式(3)で表されるラクトンを製造する。前記反応は、スルホン酸基を有する酸触媒(固体酸触媒など)の存在下で行ってもよく、反応系は不均一であってもよい。酸触媒の割合は、エポキシカルボン酸又はその誘導体(1)1モルに対して、例えば、0.05〜1当量程度である。なお、エポキシカルボン酸又はその誘導体(1)は、光学活性を有していてもよい。【化1】(式中、Aは、C1-3アルキレン基を示し、Bは水素原子又はアシル基を示す。R1は、水素原子、飽和又は不飽和の脂肪族炭化水素基を示す)

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表されるエポキシカルボン酸又はその誘導体と、下記式(2)で表される化合物とを反応させ、下記式(3)で表されるラクトンを製造する方法。【化1】(式中、AはC1-3アルキレン基を示し、Bは水素原子又はアシル基を示す。R1は、水素原子、飽和又は不飽和の脂肪族炭化水素基を示す)

IPC (6件)：

C07D307/33 ,  B01J 27/02 ,  B01J 31/08 ,  C07D309/30 ,  C07D313/04 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

B01J 27/02 X ,  B01J 31/08 X ,  C07D309/30 D ,  C07D313/04 ,  C07B 61/00 300 ,  C07D307/32 Q

Fターム (7件)：

4C037FA10 ,  4C062BB60 ,  4C062JJ03 ,  4C062JJ05 ,  4H039CA42 ,  4H039CD10 ,  4H039CD90

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ATPクエン酸リアーゼの阻害剤としてのフェニル誘導体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平5-518927   出願人：スミスクライン・ビーチャム・パブリック・リミテッド・カンパニー

引用文献：

審査官引用 (1件)

• J. Org. Chem., 53(17), pp.4098-4103 (1988)