特許

J-GLOBAL ID：200903021283773194

露光量制御方法及びその装置

発明者： 森山 徳生
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-217905
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064510
出願日： 1994年08月19日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】 感光剤への紫外線の実効的照射量を一定に保つことができる露光量制御方法及びその装置を得、マスクパターンの基板への転写精度向上を図る。【構成】 シャッタ25開放時におけるマスク31への照射光量をモニターする光学センサ33と、基板41からの反射光量をモニターする第二光学センサ37とにより、シャッタ25を開閉制御する。また、その装置は、シャッタ25開放の照射光量をモニターするための光学センサ33を設けるとともに、基板41からの反射光量をモニターするための第二光学センサ37を設け、この二つの光学センサ33、37によりシャッタ25を開閉制御可能とする。

請求項（抜粋）：

シャッタの開放・遮断により露光光をマスクへ照射し、マスク透過後の光を投影レンズによって基板上に結像させる投影露光方法の露光量制御方法において、シャッタ開放時における前記マスクへの照射光量をモニターする光学センサと、前記基板からの反射光量をモニターする第二光学センサとにより、前記シャッタを開閉制御することを特徴とする露光量制御方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 C