特許
J-GLOBAL ID：200903021291648226

位置計測方法、位置計測装置および露光方法並びに露光装置

発明者：
安田 雅彦

安田 雅彦 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-073986
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279332
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】マーク位置検出時間が増加することなく、マークの検出能力を向上させる位置計測方法および露光方法。【解決手段】物体上に形成されたマークSMを所定の撮像視野FV内で撮像し、該撮像結果に基づいてマークSMの位置情報を計測する。撮像視野FVを複数の領域A、B、Cに分割し、分割された領域毎にマークSMの像を順次探索。また露光方法は、マスク上のマスクマークと基板上の基板マークとを用いて位置合わせした後、マスクのパターンを基板に露光。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
物体上に形成されたマークを所定の撮像視野内で撮像し、該撮像結果に基づいて前記マークの位置情報を計測する位置計測方法であって、 前記撮像視野を複数の領域に分割し、 前記分割された領域毎に前記マークの像を順次探索することを特徴とする位置計測方法。
IPC (3件)：
G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G01B11/00 H ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 525F ,  H01L21/30 525W
Fターム (15件)：
2F065AA03 ,  2F065AA20 ,  2F065BB28 ,  2F065CC17 ,  2F065CC20 ,  2F065CC25 ,  2F065FF48 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ16 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  5F046EA02 ,  5F046ED01 ,  5F046FA10 ,  5F046FC04
引用特許：
審査官引用 (5件)
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