特許

J-GLOBAL ID：200903021291915283

洗浄装置

発明者： 赤羽 達夫 ,  藤戸 重夫 ,  小野 仁史 ,  溝腰 泰男 ,  上野 茂 ,  岡本 忠 ,  土肥 浩
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-326709
公開番号（公開出願番号）：特開平7-051643
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年02月28日
要約：

【要約】【目的】 洗浄度のきわめて高いCFC-113や1-1-1トリクロロエタンに代わる脱フロン脱エタン洗浄液を用いる洗浄装置において、装置の洗浄機能改善により、高洗浄度および均一洗浄性を確保する。【構成】 インバータ制御モーター20に連動連結された減速機21の減速回転軸27を洗浄槽2に液密的に貫通させ、その減速回転軸27にターンテーブル28を結合する。ターンテーブル28には被洗浄物30を収納した排液バルブ39を載置する。洗浄槽2に洗浄液を入れ、洗浄液中で被洗浄物30をターンテーブル28とともに低速回転させ洗浄液内に液流を生じさせる。同時に、洗浄槽2の側面に設けた超音波振動子16を駆動して超音波振動を洗浄液に与え、被洗浄物30を液流と超音波振動とで複合洗浄する。

請求項（抜粋）：

洗浄槽と、この洗浄槽の側壁外面に取り付けられた超音波振動子と、前記洗浄槽の内部で前記超音波振動子の横側方位置において被洗浄物を収納するバスケットを載置可能な状態で回転自在に装着されたターンテーブルと、このターンテーブルに回転駆動力を与えるモーターとを備え、洗浄液中において低速で被洗浄物を回転させて液流を発生させながら超音波洗浄を行う複合洗浄方式としたことを特徴とする洗浄装置。

IPC (4件)：

B08B 3/10 ,  B01J 19/10 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭56-097585
  
• 特開昭63-254735
  
• 被洗浄物の洗浄方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-232050   出願人：株式会社ユーエスケミカル