特許

J-GLOBAL ID：200903021303086440

真空蒸着装置

発明者： 小林 純一郎
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-073312
公開番号（公開出願番号）：特開2000-265261
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課題】 チャンバー容量(スペース)を小さくでき、しかもウエハなどの被蒸着部材への蒸着ビームの入射角の面内ばらつきを小さくし、パターンなどの蒸着膜の断面形状が均一化できる真空蒸着装置を得ること。【解決手段】 本発明の真空蒸着装置1Aは、蒸着源2と被蒸着部材であるウエハWとの間に、前記蒸着源2から見てウエハWの蒸着面の一部分が露出する開口4が形成された遮蔽板3を設け、ウエハWを、その中心点Pを軸として回転させながら蒸着膜Mを成膜できるように構成されている。前記開口4の形状はウエハWの中心点Pに要が一致する扇形であることが好ましく、また、蒸着源2からウエハWへの蒸着ビームBの法線が入射する点が前記開口4内の中央或いはその近傍にあることが好ましい。

請求項（抜粋）：

表面の少なくとも一部が平面に形成され、回転支持された被蒸着部材と蒸着源との間に、該蒸着源から見て前記被蒸着部材の平面の一部分が露出する開口が形成された遮蔽板を配設し、前記被蒸着部材を、その中心を軸として回転させながら前記開口を通して前記被蒸着部材の平面に蒸着膜を成膜できるように構成されていることを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (4件)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/50 ,  G11B 5/85 ,  H01L 21/285

FI (4件)：

C23C 14/24 G ,  C23C 14/50 H ,  G11B 5/85 A ,  H01L 21/285 S

Fターム (11件)：

4K029BD01 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029JA03 ,  4M104DD34 ,  4M104DD68 ,  5D112AA24 ,  5D112FA03 ,  5D112FB21 ,  5D112FB24 ,  5D112KK06