特許
J-GLOBAL ID：200903021307560383
反射防止膜作製法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-181874
公開番号（公開出願番号）：特開平7-015094
出願日： 1993年06月28日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：
【要約】【目的】 高い安定性を持ち、精度及び歩留りの高い膜厚制御を可能とする反射防止膜作製法及び装置である。【構成】 デバイス1端面に反射防止膜を形成するに際し、蒸着源7により、モニタ用のデバイス1前面に反射防止膜を直接堆積しつつ、反射防止膜特性を実時間でモニタする。電流源3からモニタ用デバイス1への電流注入による光出力の特性をモニタすることによって、実時間で反射防止膜の膜厚制御を行う。モニタ用デバイス1の前面に対する後面の光出力比ないしスロープ効率比を測定し、光出力比ないしスロープ効率比が極小となるように膜厚の制御を行う。
請求項（抜粋）：
半導体レーザ端面に反射防止膜を形成する方法において、反射防止膜を堆積する手段及び反射防止膜堆積中の反射防止膜特性を実時間でモニタする手段が設けられ、該堆積手段がモニタ用の半導体レーザ前面に反射防止膜を直接堆積するものであり、該モニタ用半導体レーザからは電流注入により光出力が得られ、その光出力特性をモニタすることによって反射防止膜の膜厚制御を行う実時間モニタ法であって、該実時間モニタ手段は該モニタ用半導体レーザの前面および後面の光出力の両方を検出する手段を有し、前面に対する後面の光出力に基づく値を測定し、該光出力に基づく値が極小となるように膜厚の制御を行うことを特徴とする反射防止膜作製法。
IPC (3件)：
H01S 3/18
, H01L 31/12
, H01L 33/00
