特許

J-GLOBAL ID：200903021309610507

歩留まり要因解析方法

発明者： 山北 幸重 ,  米滿 俊浩 ,  屋比久 直也
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
代理人 (3件)： 中川 周吉 ,  中川 裕幸 ,  飛田 高介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-176697
公開番号（公開出願番号）：特開2005-012095
出願日： 2003年06月20日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】本発明は、製造工程、製造装置、製造装置内位置による影響度、工程間時間による影響度の要因解析を効率良く行える歩留まり要因解析方法及びその装置を提供することを可能にすることを目的としている。【解決手段】製造ロットごとの検査情報から正常ロット群及び異常ロット群を特定し、その製造ロットごとの各製造工程で使用される製造装置及びその製造装置内の位置ごとに、その正常ロット数及び異常ロット数を関連付けて、異常ロットが突出する装置検定率の高い順に歩留まり要因を特定するように構成したことを特徴とする。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

複数の製造工程を経て製造される製品の歩留まり要因を解析する方法において、 製造ロットごとの検査情報から正常ロット群及び異常ロット群を特定し、その製造ロットごとの各製造工程で使用される製造装置及びその製造装置内の位置ごとに、その正常ロット数及び異常ロット数を関連付けて、製造装置及びその製造装置内の位置ごとに異常ロットが突出する装置検定率の高い順、または製造工程ごとに異常ロットが突出する工程検定率の高い順に歩留まり要因を特定することを特徴とする歩留まり要因解析方法。

IPC (2件)：

H01L21/02 ,  H01L21/66

FI (2件)：

H01L21/02 Z ,  H01L21/66 Z

Fターム (3件)：

4M106AA01 ,  4M106DA15 ,  4M106DH60