ホットプレートユニット

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-250394
公開番号（公開出願番号）：特開2001-313249
出願日： 2000年08月21日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】シリコンウェハW1を均一に加熱することができるホットプレートを提供する。【解決手段】ホットプレート3は、ケーシング2の開口部4に断熱性シールリング14を介して固定され、この断熱性シールリング14は樹脂に繊維が含有されて形成されている。そのため、断熱性シールリング14が熱によって軟化しても、板状基材9が平坦化した状態に維持される。よって、シリコンウェハW1を均一に加熱することができる。

請求項（抜粋）：

ケーシングの開口部に、抵抗体を有するセラミック焼結体製のホットプレートを配置してなるホットプレートユニットであって、前記ホットプレートは、同ケーシングの開口部に断熱部材を介して固定されてなるとともに、前記断熱部材には繊維を含有してなることを特徴とするホットプレートユニット。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H05B 3/68

FI (2件)：

H05B 3/68 , H01L 21/30 567

Fターム (15件)：

3K092PP20 , 3K092QA03 , 3K092QB02 , 3K092QB04 , 3K092QB18 , 3K092QB26 , 3K092QB44 , 3K092QB75 , 3K092QC02 , 3K092QC16 , 3K092QC52 , 3K092TT17 , 3K092VV02 , 3K092VV03 , 5F046KA04

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