特許

J-GLOBAL ID：200903021335686554

3次元レンズを持つポリマー導波路を製造する方法

発明者： ペイネ, ジョナサン エヌ.
出願人/特許権者： ナショナル セミコンダクタ コーポレイション
代理人 (1件)： 小橋 正明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-515613
公開番号（公開出願番号）：特表2008-502008
出願日： 2005年06月03日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：

【課題】導波路および光レンズを含む光伝送構造を提供する。【解決手段】光伝送構造は、導波路および光レンズを含み、光レンズは、動作表面上に形成され、動作表面と同一表面上にある平面内で光線が伝搬するように伝送された光線をコリメートする湾曲されたフロントレンズ表面の形成を許す充分に大きな厚さを有する。本発明はまた光伝送構造を製造する技術にも関し、これはフォトポリマー材料の使用を伴う。光伝送構造は、光データ入力のためのシステムのようなさまざまなシステムにおいて実現されえる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

光学構造を製造する方法であって、 フォトポリマー材料層を、支持基板上に形成された底部クラッディング層上に塗布すること、 所定の光のパターンが前記マスクを異なる強度で透過することを可能にするパターン付けされたグレイスケールマスクを提供すること、 前記フォトポリマー材料の層を、前記グレイスケールマスクを通して導かれる光に露光させ、前記フォトポリマー材料の選択された部分が露光され、異なる強度の光線を有する光の露光勾配に曝されるようにすること、 前記フォトポリマー材料の層を現像溶液で現像することによって、前記フォトポリマー材料の残りの部分が光学レンズと一体化された導波路を形成するよう、前記フォトポリマー材料の層の一部を除去すること、および 前記フォトポリマー材料の層をリンスすることによって、前記フォトポリマー材料の除去された部分を流し去ること を含む方法。

IPC (2件)：

G02B 6/122 ,  G02B 6/13

FI (2件)：

G02B6/12 A ,  G02B6/12 M

Fターム (36件)：

2H147AB04 ,  2H147AB05 ,  2H147AB24 ,  2H147BB02 ,  2H147BB03 ,  2H147BD11 ,  2H147CA08 ,  2H147DA08 ,  2H147EA09A ,  2H147EA09B ,  2H147EA09C ,  2H147EA09D ,  2H147EA10B ,  2H147EA10C ,  2H147EA12B ,  2H147EA12C ,  2H147EA14A ,  2H147EA14B ,  2H147EA14C ,  2H147EA14D ,  2H147EA16A ,  2H147EA16B ,  2H147EA16C ,  2H147EA16D ,  2H147EA20A ,  2H147EA20D ,  2H147EA25B ,  2H147FA17 ,  2H147FC02 ,  2H147FC04 ,  2H147FC05 ,  2H147FD08 ,  2H147FD09 ,  2H147FD20 ,  2H147FE02 ,  2H147FF05