特許

J-GLOBAL ID：200903021343115957

分離膜として有用な多孔質シリカ膜及びその製造方法

発明者： 小出 秀人 ,  吉田 利彦 ,  田村 文孝
出願人/特許権者： 東燃株式会社
代理人 (1件)： 河備 健二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-242683
公開番号（公開出願番号）：特開平10-066848
出願日： 1996年08月26日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 高い耐熱性、高いガス透過率及び高いガス選択性を兼ね備えた、クラックフリー、ピンホールフリーの、Åオーダーの孔径を有する多孔質シリカ膜及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 ラマン分析において、三員環(600±20cm-1)と四員環(490±20cm-1)を示すピークが存在し、(三員環)/(四員環)強度比が0.1〜10.0であることを特徴とする多孔質シリカ膜並びに主として下記一般式(I)で表される構造単位からなる骨格を有するポリシラザンを原料として用いるその製造方法。【化1】

請求項（抜粋）：

ラマン分析において、三員環(600±20cm-1)と四員環(490±20cm-1)を示すピークが存在し、(三員環)/(四員環)強度比が0.1〜10.0であることを特徴とする水素、ヘリウム又は水の分離膜として有用な多孔質シリカ膜。