特許

J-GLOBAL ID：200903021347921435

水素ガス圧緩衝装置および水素ガス圧の緩衝方法

発明者： 大島 久純
出願人/特許権者： 株式会社デンソー
代理人 (1件)： 伊藤 洋二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-218864
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042950
出願日： 1999年08月02日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】 簡便な方法で、かつ、僅かな構成構成部品により、時間的な圧力変動を吸収することが可能である水素ガス圧緩衝装置および水素ガス圧の緩衝方法を提供する。【解決手段】 水素供給設備1と水素消費設備2とをつなぐ配管3の途中に、水素吸蔵合金8を内蔵した合金内蔵部材4が備えられている。そして、水素吸蔵合金8が水素を吸収したり放出したりすることにより、水素消費設備2に供給する水素ガスの圧力変動が緩衝される。また、水素吸蔵合金8のプラトー圧力が通常使用時に合金内蔵部材4に流入する時の水素ガスの圧力と、変動する水素ガスの圧力の最大値あるいは最小値との間にある様に、水素吸蔵合金8の成分や組成が選定されているため、適切に水素ガスの圧力変動を緩衝することができる。

請求項（抜粋）：

水素供給設備(1)と水素消費設備(2)とをつなぐ配管(3)の途中に介在される水素吸蔵合金(8)を内蔵した合金内蔵部材(4)を備え、前記水素吸蔵合金(8)に水素を吸収させたり、あるいは、放出させたりすることにより、前記水素消費設備(2)に供給される水素ガスの圧力変動を緩衝することを特徴とする水素ガス圧緩衝装置。

IPC (5件)：

G05D 16/02 ,  C01B 3/00 ,  G05D 16/04 ,  F17C 11/00 ,  F17D 1/04

FI (5件)：

G05D 16/02 ,  C01B 3/00 A ,  G05D 16/04 A ,  F17C 11/00 C ,  F17D 1/04

Fターム (19件)：

3E072AA10 ,  3E072EA10 ,  3J071AA02 ,  3J071BB11 ,  3J071CC11 ,  3J071FF11 ,  4G040AA14 ,  4G040AA29 ,  5H316AA01 ,  5H316AA20 ,  5H316BB01 ,  5H316CC08 ,  5H316DD02 ,  5H316DD12 ,  5H316EE30 ,  5H316FF01 ,  5H316GG01 ,  5H316HH04 ,  5H316JJ13