特許

J-GLOBAL ID：200903021363990986

被描画基材、その金型、光ピックアップ装置、電子ビーム描画方法、その方法にて描画された基材、及び電子ビーム描画装置

発明者： 古田 和三 ,  茜部 ▲祐▼一 ,  森川 雅弘 ,  増田 修
出願人/特許権者： コニカ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-263313
公開番号（公開出願番号）：特開2003-075602
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、誘電体膜を形成することなく表面反射の低減を図ることができ、ピックアップ機能の低下を防止することのできる被描画基材、その金型、光ピックアップ装置、電子ビーム描画方法、その方法にて描画された基材、及び電子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】 基材に対して電子ビームを走査することにより基材の描画を行う電子ビーム描画に関する。基材の曲面部に回折格子の少なくとも1ピッチ部分を傾けて形成し、当該1ピッチ部分の傾斜部に対して表面反射防止用の複数の孔部を形成する際に、当該孔部分のドーズ量を加味した走査位置に対するドーズ量分布を予め定義したドーズ分布の特性に基づいて、当該ドーズ量を算出しつつ前記基材の曲面部の描画を行う。これにより、表面反射防止用の複数の孔部を形成した基材を提供できる。

請求項（抜粋）：

少なくとも一面に曲面部を有し、少なくとも該曲面部に対して電子ビームを走査することにより所定の描画パターンが描画される被描画基材であって、前記曲面部に、該曲面部より入射する光の反射を防止する反射防止構造を設けたことを特徴とする被描画基材。

IPC (5件)：

G02B 1/11 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/18 ,  H01J 37/305

FI (5件)：

G02B 3/00 Z ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/18 ,  H01J 37/305 B ,  G02B 1/10 A

Fターム (11件)：

2H049AA04 ,  2H049AA14 ,  2H049AA43 ,  2H049AA57 ,  2H049AA64 ,  2K009AA02 ,  2K009BB11 ,  2K009DD12 ,  2K009DD17 ,  2K009FF01 ,  5C034BB10