固体撮像素子の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野田茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-046527
公開番号（公開出願番号）：特開2003-249640
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：

【要約】【課題】露光装置の一括露光範囲よりも大きい露光領域を有する固体撮像素子を高精度で安価に作製する。【解決手段】撮像素子10の全露光領域を撮像部、左側周辺回路部、右側周辺回路部に3分割する。そして、最初の露光工程において、パターン合わせマーク40Bと合わせずれ検出マーク40Aの基準となる主尺を含む1つ目の撮像部20を形成する。次に次露光工程以降では、1つ目の撮像部20に形成した各マーク40A、40Bを基準として、2つ目以降の撮像部20の露光と各マーク40A、40Bの形成を行い、次いで周辺回路部30の左側領域310、右側領域320の露光を順次行っていく。この際、露光装置の縦長な一括露光範囲に合わせたウェーハを90°回転し、周辺回路部30の左側領域310、右側領域320を縦長に合わせて露光を行う。

請求項（抜粋）：

少なくとも入射光量に応じた信号電荷を生成する複数の光電変換素子を含む撮像部と、前記撮像部の周辺に設けられ、撮像部からの信号を処理する周辺回路部とを有する固体撮像素子の製造方法において、フォトレジスト工程で用いる露光装置の一括露光範囲よりも大きい露光領域を有する固体撮像素子を作製する場合に、前記固体撮像素子の全体領域を複数に分割し、各分割領域に対して個別のレクチルによって露光を行う分割露光工程を有し、前記分割露光工程は、少なくとも前記撮像部全体を一括露光してフォトレジストパターンを形成する第1露光工程を含む、ことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。

IPC (4件)：

H01L 27/148 , G03F 9/00 , H01L 21/027 , H01L 27/146

FI (4件)：

G03F 9/00 Z , H01L 27/14 B , H01L 27/14 A , H01L 21/30 514 C

Fターム (13件)：

2H097AA12 , 2H097JA02 , 2H097KA03 , 2H097KA12 , 2H097LA20 , 4M118BA09 , 4M118EA01 , 4M118EA14 , 4M118EA20 , 4M118FA06 , 5F046AA25 , 5F046CB17 , 5F046CC13

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