特許
J-GLOBAL ID:200903021377221497

防錆方法およびこれを適用したプラント

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-148009
公開番号(公開出願番号):特開2002-341086
出願日: 2001年05月17日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】機器を構成している金属物質の溶出を阻止し、錆の発生量を低減する。【解決手段】水ループ41に設けられた各機器(例えば、配管、蒸気発生器44、高圧タービン49、湿分分離加熱器50、低圧タービン51、復水器46、脱気器47)の少なくとも一部分に、光や放射線の照射により電子を発生する光触媒物質が含まれた物質を塗布し、物質が塗布された光触媒物質塗布面に光または放射線を照射し、各機器を帯電させることによって、各機器を構成している金属が水ループ41内へ溶出することを阻止する。
請求項(抜粋):
水ループに設けられた機器の少なくとも一部分に、光または放射線の照射により電子を発生する光触媒物質が含まれた物質を塗布し、前記物質が塗布された塗布面に光または放射線を照射するようにしたことを特徴とする防錆方法。
IPC (9件):
G21D 1/00 GDP ,  G21D 1/00 ,  B01J 35/02 ,  F22B 1/16 ,  F22B 1/18 ,  F22B 37/00 ,  F28F 19/00 511 ,  G21C 15/02 ,  G21C 19/307
FI (9件):
B01J 35/02 J ,  F22B 1/16 A ,  F22B 1/18 M ,  F22B 37/00 A ,  F28F 19/00 511 C ,  G21C 15/02 R ,  G21D 1/00 GDP W ,  G21D 1/00 S ,  G21C 19/30 L
Fターム (26件):
4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA05A ,  4G069BA17 ,  4G069BA48A ,  4G069BB01A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BB09A ,  4G069BB13A ,  4G069BC03A ,  4G069BC12A ,  4G069BC17A ,  4G069BC22A ,  4G069BC35A ,  4G069BC36A ,  4G069BC50A ,  4G069BC55A ,  4G069BC56A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BD05A ,  4G069BD09A ,  4G069CD10 ,  4G069FA04 ,  4G069FB23
引用特許:
審査官引用 (1件)

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