特許
J-GLOBAL ID：200903021411621386
表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-228363
公開番号（公開出願番号）：特開平6-077301
出願日： 1992年08月27日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 成膜等の表面処理を、二層以上の多層薄膜について行う場合でも、膜厚、膜質等の膜状態を適切に制御する。【構成】 被処理基板Sを収容し、該基板Sの表面に薄膜を形成するためのチャンバ10を備えた薄膜形成装置において、基板Sの表面に偏光を照射する偏光子部24、該基板Sの表面からの反射光を受光する検光子部26と、該検光子部で受光した波長毎の光を測定するモノクロメータ28と、該モノクロメータ28で測定した光を信号処理し、その結果を制御部22に出力する計算機とで構成された分光エリプソメータを備えている。
請求項（抜粋）：
被処理体を収容し、該被処理体の表面を処理する処理容器を備えた表面処理装置において、上記被処理体の表面に形成されている薄膜を光学的に測定する分光偏光解析手段を備えていることを特徴とする表面処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/66
, G01B 11/06
, G01N 21/21
, G01N 21/41
