特許

J-GLOBAL ID：200903021419638440

混床式イオン交換装置並びにこの混床式イオン交換装置を使用した純水及び超純水の製造方法

発明者： 松島 孝 ,  長谷川 誠太郎
出願人/特許権者： 整水工業株式会社
代理人 (1件)： 清原 義博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-127847
公開番号（公開出願番号）：特開平6-315683
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【構成】 前段工程からの処理水を混床式イオン交換装置(1)の上部より下降流で通水させるとともに、得られた処理水を該混床式イオン交換装置の下層部に設けた上段と下段との二段の集水部(4)によってそれぞれ集水し、上段の集水部(41)によって得られた処理水(H1 )は次工程へと移行させ、下段の集水部(42)より得られた処理水(H2 )は前段工程へと戻してなる。【効果】 充填されている樹脂からのイオンの溶出がほとんどなく、高集積化、高密度化される半導体工業の洗浄用水として好適に使用される極めて純度の高い処理水を得ることができる。

請求項（抜粋）：

内部にカチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂との混合樹脂を充填してなる混床式イオン交換装置において、上部に被処理水を通水する供給部が設けられてなるとともに、下部のカチオン交換樹脂が沈降集積する部分の直上方に処理水の第一集水部が設けられてなることを特徴とする混床式イオン交換装置。

IPC (2件)：

C02F 1/42 ,  B01J 47/04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-069187
  
• 特開昭63-315189