特許

J-GLOBAL ID：200903021429487962

光ディスク用原盤の作製法

発明者： 堀籠 信吉 ,  宮村 芳徳 ,  野々垣 三郎 ,  内野 正市 ,  安齋 由美子 ,  宇田川 智子
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-029372
公開番号（公開出願番号）：特開平6-243512
出願日： 1993年02月18日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：

【要約】【目的】追記型,書換え型、および再生専用型光ディスクの記録密度を高めるのに適した光ディスク用原盤を提供する。【構成】フォトレジスト膜の上にコントラスト増強層を形成したあと、カッティング装置にかけて通常の光ビーム、あるいは超解像光ビームを用いて案内溝,ピットの潜像を露光し、現像する。【効果】案内溝やアドレス信号用ピットが微細化され、しかもノイズが低いので、記録密度を高めることが出来る。

請求項（抜粋）：

ガラス基板の上にポジ型のフォトレジスト膜を塗布する工程と、前記フォトレジスト膜を熱処理する工程と、光ビームにより、所望のパターンを前記フォトレジスト膜に露光する工程と、露光済みのフォトレジスト膜を現像,水洗,乾燥する工程とから成る光ディスク原盤作製法において、前記パターンを前記フォトレジスト膜に露光する工程の前に、前記フォトレジスト膜の上にコントラスト増強層を形成する工程を追加したことを特徴とする光ディスク用原盤の作製方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-372740
  
• 特開平2-053062
  
• 特開平3-063947