特許
J-GLOBAL ID：200903021429979520
微細パターンの印刷方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前島 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-230626
公開番号（公開出願番号）：特開平8-072384
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：
【要約】【目的】 凹版の凹部にインキを充填した後、インキを被印刷体に転移させてパターンを印刷する凹版印刷方法において、インキの離型性、パターンの再現性、および耐刷性を向上させて精度の高い印刷を実現する。【構成】 凹版印刷方法において、脱有機酸型あるいは脱アルコール型で縮合硬化するシリコーンを使用して、凹版の少なくとも凹部の表面に離型性のシリコーン樹脂層を形成する。
請求項（抜粋）：
印刷画線部となるパターン凹部を設けた凹版の少なくとも凹部の表面に、凹版に接着する離型性の樹脂層を形成し、この凹版にインキを充填し、被印刷体あるいは中間介在物に転写する微細パターンの印刷方法において、脱有機酸型あるいは脱アルコール型で縮合硬化するシリコーンを使用して離型性のシリコーン樹脂層を形成することを特徴とする印刷方法。
IPC (3件)：
B41M 1/10
, B41F 17/14
, B41N 1/12
