特許

J-GLOBAL ID：200903021435973836

スパッタ装置

発明者： 磯部 晶
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 五十嵐 省三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-350881
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188915
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【目的】 スパッタ装置において、スパッタ前のエッチング時における基板からの水分放出量を少なくすること。【構成】 スパッタ装置内のRFプラズマエッチング室に設けられた基板1を保持するための基板ホールダ2において、冷却水配管8を設け、これに冷却水を流すことによって基板1を直接冷却する。また、基板抑え2aによって基板1を抑え付けると同時に、Arガス導入口9よりArガスを導入して基板1と基板ホールダ2との結合を強くする。これにより、基板1の冷却効果を高める。

請求項（抜粋）：

スパッタ前の基板(1)をエッチングするためのエッチング室を具備するスパッタ装置において、前記エッチング室の基板ホールダに前記基板を冷却するための冷却機構(8)を設けたことを特徴とするスパッタ装置。

IPC (6件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/02 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/31 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-159572
  
• 特開昭49-040283