特許
J-GLOBAL ID：200903021436176123
プロセス装置用高周波電源の整合装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-244835
公開番号（公開出願番号）：特開平6-096967
出願日： 1992年09月14日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】スパッタリングやエッチング、プラズマCVD、イオンプレーティング等真空中でプラズマを発生させ、成膜、加熱等の処理を行うプロセス装置に使用される高周波電源の整合装置において装置の小形化、冷却効率の向上、広範囲で微細な調整の可能化、高周波損失の低減及び保守の容易化を目的とする。【構成】インダクタンスコイル1は平坦な渦巻状に構成され、また、コイル1の各巻回に所定の間隔で短絡用タップ4が設けられる。
請求項（抜粋）：
容器内にコンデンサとコイルとから成る整合回路を収納し、コイルのインダクタンスを調整することによりプロセス装置用高周波電源の出力インピーダンスとプロセス装置の負荷のインピーダンスを整合するようにしたプロセス装置用高周波電源の整合装置において、コイルを平坦な渦巻状に構成し、コイルの各巻回に短絡用タップを複数設け、隣接巻回における短絡用タップに短絡板を係止してコイルの各巻回間を選択的に短絡できるように構成したことを特徴とするプロセス装置用高周波電源の整合装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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