特許
J-GLOBAL ID:200903021436646251

排ガス浄化用触媒装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-274297
公開番号(公開出願番号):特開平11-107744
出願日: 1997年10月07日
公開日(公表日): 1999年04月20日
要約:
【要約】【課題】HCの利用効率を増大させ、NOx 浄化能をさらに向上させる。【解決手段】酸素を過剰に含む排ガス中にHCを供給してNOx を還元浄化するのに用いられ、複数のハニカム触媒のうち最下流部に配置されたハニカム触媒を除く少なくとも1個のハニカム触媒の一部に、貴金属の担持量が少ない低担持領域を設けた。低担持領域ではHCはほとんど酸化されず、そのまま下流側のハニカム触媒に流入するため、下流側のハニカム触媒でもHCがNOx の還元に消費されHCの利用効率が向上する。
請求項(抜粋):
酸素を過剰に含む排ガス中に炭化水素を供給して該排ガス中に含まれる窒素酸化物を還元浄化するのに用いられ、複数のハニカム触媒を排ガス流れ方向に対して直列に配置してなる排ガス浄化用触媒装置であって、前記複数のハニカム触媒のうち最下流部に配置されたハニカム触媒を除く少なくとも1個のハニカム触媒の一部に、貴金属の担持量が少ない低担持領域をハニカム軸方向に連続して設けたことを特徴とする排ガス浄化用触媒装置。
IPC (6件):
F01N 3/28 301 ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/38 ,  B01J 29/22 ZAB ,  B01J 35/04 301 ,  F01N 3/20
FI (7件):
F01N 3/28 301 G ,  B01J 23/38 A ,  B01J 29/22 ZAB A ,  B01J 35/04 301 J ,  F01N 3/20 B ,  B01D 53/36 102 H ,  B01D 53/36 103 B

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