特許

J-GLOBAL ID：200903021444537399

基板処理装置

発明者： 嶋治 克己 ,  寺内 健一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-212194
公開番号（公開出願番号）：特開2000-049206
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】 基板処理装置を小さなスペースに設置できるようにすることにある。【解決手段】 洗浄装置(基板処理装置)は、複数の処理ユニット3等を有し、基板に対して一連の処理を行う装置である。この洗浄装置は、搬送ローラ21と、下部及び上部搬送ローラ31,32とを備えている。搬送ローラ21は、基板を水平状態あるいは水平状態に近い傾斜状態で搬送する。下部及び上部搬送ローラ31,32は、基板を垂直状態あるいは垂直状態に近い傾斜状態で搬送する。

請求項（抜粋）：

複数の処理部を有し、基板に対して一連の処理を行う基板処理装置であって、基板を水平状態あるいは水平状態に近い傾斜状態で搬送する第1基板搬送手段と、基板を垂直状態あるいは垂直状態に近い傾斜状態で搬送する第2基板搬送手段と、を備えた基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  B08B 3/02 ,  B65G 49/06 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 648

FI (5件)：

H01L 21/68 A ,  B08B 3/02 C ,  B65G 49/06 Z ,  H01L 21/304 648 A ,  H01L 21/30 502 J

Fターム (20件)：

3B201AA03 ,  3B201AB04 ,  3B201BA13 ,  3B201BB21 ,  3B201BB83 ,  3B201BC01 ,  3B201CB15 ,  3B201CC12 ,  5F031AA10 ,  5F031BB05 ,  5F031CC20 ,  5F031KK02 ,  5F031KK06 ,  5F031KK07 ,  5F046JA04 ,  5F046JA15 ,  5F046JA22 ,  5F046KA01 ,  5F046KA07 ,  5F046LA18