特許

J-GLOBAL ID：200903021447446432

加熱乾燥装置

発明者： 阿部 一夫 ,  高尾 潔 ,  唐木 和久 ,  鈴木 信夫
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-187027
公開番号（公開出願番号）：特開平9-042832
出願日： 1995年07月24日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】 洗浄液中に混入した水分による乾燥品質の低下をなくした加熱乾燥装置を提供する。【解決手段】 導入した被乾燥物3を減圧下で溶剤の蒸気により乾燥する乾燥槽1と、この乾燥槽1に連結し乾燥槽1内に溶剤蒸気を供給する溶剤蒸発槽4と、乾燥槽1内を減圧する液封ポンプ6と、乾燥槽1内に供給された溶剤蒸気を液化して回収する冷却器7又は凝縮タンク14と、溶剤中に混入した水を分離して除去する水分除去装置8と、装置内への水分の混入を低減する除湿装置10とを具備する。

請求項（抜粋）：

導入した被乾燥物を洗浄及び乾燥処理する乾燥槽と、前記乾燥槽に連結し乾燥槽内に溶剤蒸気を供給する蒸気供給手段と、前記乾燥槽内を減圧する減圧手段とを有し、前記被乾燥物を減圧下で蒸気洗浄及び真空乾燥する加熱乾燥装置において、前記溶剤中に混入した水を分離して除去する水分離手段を具備することを特徴とする加熱乾燥装置。

IPC (5件)：

F26B 5/04 ,  B08B 3/08 ,  F26B 21/00 ,  F26B 21/14 ,  H01L 21/304 351

FI (5件)：

F26B 5/04 ,  B08B 3/08 Z ,  F26B 21/00 P ,  F26B 21/14 ,  H01L 21/304 351 V