特許
J-GLOBAL ID:200903021450347542

化粧組成物中のレゾルシノール誘導体の安定化

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 川口 義雄 ,  一入 章夫 ,  小野 誠 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-577834
公開番号(公開出願番号):特表2005-527534
出願日: 2003年03月13日
公開日(公表日): 2005年09月15日
要約:
【化1】 超微粉金属酸化物を、一般式Iの4-置換レゾルシノール誘導体と共に含有する化粧組成物は改良された貯蔵安定性を示す。式(I)のR1及びR2の各々は独立に、水素原子、-CO-R(アシル基)、-COO-R、CONHRを表し;ここにRは飽和または不飽和の線状、分枝状または環状のC1-C18炭化水素基を表し、R3は、(1)1-18個の炭素原子、好ましくは2-12個の炭素原子を有しており、線状アルキル基の1つまたは複数の水素原子がメチル基またはエチル基で置換されているかまたは未置換のアルキル基を表し、例えば、R3が線状または分枝状のアルキルを構成しているか、または、(2)一般式(II)の基を表し、式中のXは好ましくはH、nは0-3、点線は場合によっては存在する二重結合を表す。
請求項(抜粋):
(a)約0.000001-約50%の超微粉金属酸化物と、 (b)約0.000001%-約50%の一般式(I):
IPC (2件):
A61K7/48 ,  A61K7/00
FI (4件):
A61K7/48 ,  A61K7/00 B ,  A61K7/00 C ,  A61K7/00 D
Fターム (17件):
4C083AB211 ,  4C083AB241 ,  4C083AB242 ,  4C083AC122 ,  4C083AC242 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC782 ,  4C083AC842 ,  4C083AD152 ,  4C083CC04 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083EE01 ,  4C083EE03 ,  4C083EE16
引用特許:
審査官引用 (13件)
全件表示

前のページに戻る