特許

J-GLOBAL ID：200903021458490700

基板処理装置

発明者： 境 正憲
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-111112
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306846
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 余計なヒータを設けることなく、きわめて簡単な構成により、排気系の影響で生じる膜厚分布の不均一の緩和を図る。【解決手段】 基板Wを処理室1内に水平に保持し、処理室1の一端に設けた給気口4A、5Aからガスを供給して他端に設けた排気口4B、5Bからガスを排出することで、基板Wと平行な方向にガスを流して処理する基板処理装置において、1つの排気配管6、7に連通する排気口14B、15Bを、中央に設けた邪魔板20により複数の開口24、24、25、25に分割し、ガス流れPの中央集中を緩和した。

請求項（抜粋）：

1枚または少数枚の基板を処理室内に水平に保持し、処理室の一端に設けた給気口からガスを供給して他端に設けた排気口からガスを排出することで、基板と平行な方向にガスを流して処理する基板処理装置において、1つの排気配管に連通する前記排気口が、複数の開口よりなることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/455

FI (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 D

Fターム (13件)：

4K030CA17 ,  4K030EA11 ,  4K030KA08 ,  4K030KA45 ,  5F045BB01 ,  5F045BB08 ,  5F045DP04 ,  5F045EB02 ,  5F045EB09 ,  5F045EC07 ,  5F045EE20 ,  5F045EF14 ,  5F045EF20